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uv紫外线光解废气处理设备通过采用 UV-D 波段内的真空紫外线(波长范围 170-184.9nm),破坏有机废气分子的化学键,使之裂解形成游离状态的原子或基团(C*、H*、O*等);同时通过裂解混合空气中的氧气,使之形成游离的氧原子并结合天生臭氧【UV+O2→O-+O*(活性氧) O+O2→O3(臭氧)】。下面跟恒峰蓝小编一起来详细了解一下~
uv紫外线光解废气处理设备具有强氧化性的臭氧(O3)与有机废气分子被裂解天生的原子发生氧化反应,形成 H2O 和 CO2。整个反应过程不超过 0.1 秒,净化效果与废气分子的键能、废气浓度以及含氧量有关。整个净化过程无需添加任何化学助剂或者特殊限制前提。
uv紫外线光解废气处理设备优势
高效除恶臭:能高效去除挥发性有机物(VOC)、无机物、硫化氢、氨气、硫醇类等主要污染物,以及各种恶臭味气体,脱臭效率可达到95%以上,脱臭效果超过国家1993年颁布的恶臭污染物排放尺度(GB14554-1993)和1996年颁布的《大气污染物综合排放尺度》(GB16297-1996)。
无需预处理:有机气体无需进行特殊的预处理,如加温、加湿等,设备工作环境温度在-30℃-95℃之间,湿度在30%-98%、PH值在2-11范围均可正常工作。
无需添加任何物质:只需要设置相应的排风管道和排风动力,使恶臭气体以及产业废气通过UV光解废气净化设备进行脱臭分解净化,无需添加任何物质介入化学反应。
适应性强:可适应中低浓度,不同产业废气物质的脱臭、净化处理,可天天24小时连续工作,运行不乱可靠。
运行本钱低:无任何机械动作,无噪音,无需专人治理和日常维护,只需作按期检查,设备能耗低,设备风阻低<50pa,可节约大量排风动力能耗。
安全可靠:因采用光解原理,模块采取隔爆处理,消除了安全隐患,防火、防爆、防侵蚀机能高,设备机能安全不乱,特别合用于采油(气)田、石油化工、制药等防爆要求高的行业。
uv紫外线光解废气处理设备应用范围
印刷厂、印染厂、电子厂、塑料厂、涂料厂、家具厂、炼油厂、橡胶厂、化工厂、造纸厂、皮革厂、农药厂、制药厂、油漆厂、化肥厂、食物加工厂、饲料厂、香精香料厂、屠宰厂、污水处理厂、垃圾中转站、喷涂喷漆等恶臭气体、产业废气的净化处理。
uv紫外线光解废气处理设备针对有机废气,能实现高效不乱的净化。不需要添加任何化学助剂或者特殊限制前提,设备占地面积小,基本可实现免维护,运行用度较燃烧法和低温等离子要低。设备安全、防爆。
粤公网安备 44190002006302号
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uv紫外线光解废气处理设备通过采用 UV-D 波段内的真空紫外线(波长范围 170-184.9nm),破坏有机废气分子的化学键,使之裂解形成游离状态的原子或基团(C*、H*、O*等);同时通过裂解混合空气中的氧气,使之形成游离的氧原子并结合天生臭氧【UV+O2→O-+O*(活性氧) O+O2→O3(臭氧)】。下面跟恒峰蓝小编一起来详细了解一下~
uv紫外线光解废气处理设备具有强氧化性的臭氧(O3)与有机废气分子被裂解天生的原子发生氧化反应,形成 H2O 和 CO2。整个反应过程不超过 0.1 秒,净化效果与废气分子的键能、废气浓度以及含氧量有关。整个净化过程无需添加任何化学助剂或者特殊限制前提。
uv紫外线光解废气处理设备优势
高效除恶臭:能高效去除挥发性有机物(VOC)、无机物、硫化氢、氨气、硫醇类等主要污染物,以及各种恶臭味气体,脱臭效率可达到95%以上,脱臭效果超过国家1993年颁布的恶臭污染物排放尺度(GB14554-1993)和1996年颁布的《大气污染物综合排放尺度》(GB16297-1996)。
无需预处理:有机气体无需进行特殊的预处理,如加温、加湿等,设备工作环境温度在-30℃-95℃之间,湿度在30%-98%、PH值在2-11范围均可正常工作。
无需添加任何物质:只需要设置相应的排风管道和排风动力,使恶臭气体以及产业废气通过UV光解废气净化设备进行脱臭分解净化,无需添加任何物质介入化学反应。
适应性强:可适应中低浓度,不同产业废气物质的脱臭、净化处理,可天天24小时连续工作,运行不乱可靠。
运行本钱低:无任何机械动作,无噪音,无需专人治理和日常维护,只需作按期检查,设备能耗低,设备风阻低<50pa,可节约大量排风动力能耗。
安全可靠:因采用光解原理,模块采取隔爆处理,消除了安全隐患,防火、防爆、防侵蚀机能高,设备机能安全不乱,特别合用于采油(气)田、石油化工、制药等防爆要求高的行业。
uv紫外线光解废气处理设备应用范围
印刷厂、印染厂、电子厂、塑料厂、涂料厂、家具厂、炼油厂、橡胶厂、化工厂、造纸厂、皮革厂、农药厂、制药厂、油漆厂、化肥厂、食物加工厂、饲料厂、香精香料厂、屠宰厂、污水处理厂、垃圾中转站、喷涂喷漆等恶臭气体、产业废气的净化处理。
uv紫外线光解废气处理设备针对有机废气,能实现高效不乱的净化。不需要添加任何化学助剂或者特殊限制前提,设备占地面积小,基本可实现免维护,运行用度较燃烧法和低温等离子要低。设备安全、防爆。